同社は2012年設立の民営企業で、フォトマスクの研究開発、生産、販売を主業務としている。製品は主にフラットディスプレイ、半導体、タッチセンサー、回路ボードなどの分野で利用されており、フラットディスプレイ向けでは第2.5世代から大型化した第11世代までの全世代のフォトマスク生産能力を持つ。
半導体向けでは250ナノメートルノードのフォトマスク量産を実現するとともに、180ナノメートル、150ナノメートルノードのフォトマスク生産重要技術を掌握、国外メーカーに依存してきた中国市場において国産化を実現した。
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