嶺南(ヨンナム)大学ナノメディカル有機材料工学科キム・セヒョン教授は、延世大学物理学イムソンイル教授、仁荷(イナ)大学ナノシステム工学部ヤンフェチャン教授の研究チームと共同で、次世代電子素子である有機薄膜トランジスタの駆動電圧を大幅に下げる高分子ブラシナノ薄膜形成技術を開発した。

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有機薄膜トランジスタ実用化には、一般的乾電池(1.5V)でも駆動できる低電圧駆動電子素子の実装技術が必要になる。しかし、今まで開発された低電圧実装技術は、製造工程コストの高さと素子間の信頼性の問題で実用化には限界があった。
研究チームは、広く使われる有機半導体材料を使い、絶縁層表面上での自己組織化 - 結晶化 - 薄膜形成メカニズムを解明し、最適化された高分子ブラシナノ薄膜形成技術を開発した。これにより、製造工程コストを大幅に削減し、製品の信頼性を高めたものである。
共同研究を推進した嶺南大学のキム・セヒョン教授は「低静電容量の絶縁層でも1.5V以内での駆動を確保できる有機薄膜トランジスタ技術は、半導体・絶縁層界面を最適化できる高分子ブラシナノ薄膜形成技術であり、低消費電力駆動が可能な有機-無機ハイブリッド絶縁層を開発できたため、次世代のソフト電子素子の駆動電圧を大幅に下げられる新たな可能性を開いた」と研究成果を説明した。
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