fig国立研究開発法人 産業技術総合研究所【理事長 中鉢 良治】（以下「産総研」という）集積マイクロシステム研究センター【研究センター長 松本 壮平】光マイクロナノシステム研究チーム 穂苅 遼平 研究員、製造技術研究部門【研究部門長 市川 直樹】表面機能デザイン研究グループ 栗原 一真 主任研究員は、菱江化学株式会社【代表取締役 築地 永治】、東海精密工業株式会社【代表取締役 伊藤 寛】、伊藤光学工業株式会社【代表取締役 伊藤 寛】と共同で、現在主流の二色性色素偏光シートよりも高耐久で、透明性が高く、反射率を従来のワイヤーグリッド偏光素子の51 %から1/10以下に低減したワイヤーグリッド偏光素子をシート状に形成した低反射率・高耐久性ワイヤーグリッド偏光シートを開発した。



今回、金属インクでワイヤーグリッド偏光素子の構造を形作り、適切な焼成により、世界に先駆けて偏光度99 %以上、反射率5 %以下の低反射率ワイヤーグリッド偏光シートを実現した。従来のワイヤーグリッド偏光素子は、偏光度が高い、透過率が高い、薄い、といった特長を兼ね備えているが、緻密に成膜された金属を用いているため反射率が高く、その用途は液晶プロジェクターなどに限られていた。開発した技術により従来のワイヤーグリッド偏光素子の特長を活かしつつ、反射率を低減できた。また、耐熱性、耐湿性、耐光性、耐スクラッチ性も備えているため、これまで応用が難しかった眼鏡業界、自動車業界などへの展開も期待できる。

なお、この技術の詳細は、2019年7月4～5日に東工大蔵前会館（東京都目黒区）で開催される応用物理学会次世代リソグラフィワークショップ（NGL2019）で発表される。

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