40342023032022000000-1ディスプレー製造装置のブイ・テクノロジーは半導体やディスプレーの回路形成に使うフォトマスク（回路原版）の新型修正装置で初めて受注を獲得したと発表した。高い位置精度でフォトマスク上の細かい欠陥を修正したり、回路パターンを描画したりできる。同社の検査装置や測定装置と組み合わせることで、半導体やディスプレー製品の品質を担保できる。

受注を獲得したのは集束イオンビームフォトマスク修正装置「Draco」で、4月以降の出荷を見込む。同装置は半導体や中小型の有機ELディスプレー、液晶ディスプレー向けのフォトマスクを修正するものだ。





欠陥の修正やパターン描画の機能でフォトマスクの品質をより高められる。フォトマスクの生産には長い時間を要するため、修正装置の導入で歩留まり（良品率）を高めることで、コスト削減や生産効率の向上が期待できる。

今回、海外のフォトマスクメーカーに初出荷するが、客先で装置の評価が進むことでさらなる販売拡大を期待する。装置単価は十数億円ほどで、国内外での販売増を狙う。

ブイ・テクノロジーが既に製品化している検査装置や精密座標測定装置と組み合わせることで、主要な検査工程を幅広く支援できる。

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