March 25, 2022
ブイテクノロジー、半導体・ディスプレー向けマスク修正装置
ディスプレー製造装置のブイ・テクノロジーは半導体やディスプレーの回路形成に使うフォトマスク（回路原版）の新型修正装置で初めて受注を獲得したと発表した。高い位置精度でフォトマスク上の細かい欠陥を修正したり、回路パターンを描画したりできる。同社の検査装置や測定装置と組み合わせることで、半導体やディスプレー製品の品質を担保できる。受注を獲得したのは集束イオンビームフォトマスク修正装置「Draco」で、4月以降の出荷を見込む。同装置は半導体や中小型の有機ELディスプレー、液晶ディスプレー向けのフォトマスクを修正するものだ。
欠陥の修正やパターン描画の機能でフォトマスクの品質をより高められる。フォトマスクの生産には長い時間を要するため、修正装置の導入で歩留まり（良品率）を高めることで、コスト削減や生産効率の向上が期待できる。
今回、海外のフォトマスクメーカーに初出荷するが、客先で装置の評価が進むことでさらなる販売拡大を期待する。装置単価は十数億円ほどで、国内外での販売増を狙う。
