国内産業の中でも製造業は特殊な変化を遂げていた! 実質/名目GDPの推移を追う積水化学による「ペロブスカイト太陽電池」の開発ストーリー。社会的課題解決と経済成長を実現する「新しい資本主義」とは

October 19, 2023

東レがバンプまでレーザー転写、マイクロLED量産への壁破る

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東レは、マイクロLEDディスプレーの製造プロセスで、LEDチップを配線基板に接合するための微細な端子(バンプ)を形成するための接合材料を新たに開発した。これまでは低温低圧プロセスと微細加工を両立させるのが難しかったが、新材料では直径5µmと微細なバンプ形成が可能で、しかもプロセス温度や圧力も大きく低減した。これで、この次世代ディスプレーの製造に関するミッシングリンクが埋まり、市場で離陸する準備が整ったといえる。
 ところが、マイクロLEDディスプレーが話題になって10年以上経つにもかかわらず、製品は非常に少ない。LEDチップの製造コストが高い上に、そのチップの配線基板への実装に非常に時間がかかっていたからだ。10年前は、1辺が数十µmかそれ以下の微細なLEDチップを1個ずつ配線基板に移していたため、LEDチップを約2500万個用いる4Kディスプレーでは1枚のパネルの製造に数カ月かかるともいわれた。








 そうした課題の多くは近い将来、解消に向かいそうだ。この1~2年、東レと東レエンジニアリングが、マイクロLEDディスプレーの製造上の課題を解決する製造プロセスやそのための装置や材料を次々に発表しているからである。それぞれの要素技術がブレークスルー級のインパクトがある。
 この他、一般的な半導体製造プロセス向けに開発した複数の技術も、マイクロLEDディスプレーの製造に転用できるとする。例えば、東レが2015年に発表した基板の薄膜化に用いるウエハーの仮貼り材料は、レーザー転写の前処理に利用する。
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return_to_forever at 09:19│Comments(0)M_Micro LED | P_プロセス技術

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