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住友重機械工業は次世代型ペロブスカイト太陽電池に必要な電子輸送層の新成膜技術を開発した。独自成膜方法の反応性プラズマ蒸着法（ＲＰＤ法）を用いることで、電子輸送層に適した酸化スズ（ＳｎＯ２）のみの膜を形成することに成功した。各メーカーで検討が進む電子輸送層の成膜方法と比べてコストを２００分の１に抑えられる。成膜技術の量産装置化とペロブスカイト太陽電池の製造工程への適用を目指す。

ＲＰＤ法は物理気相成長法（ＰＶＤ）の一種で、低温・低ダメージや大面積・高速成膜などの特徴を持つ。また危険性がなく低環境負荷のガスを利用するため、ペロブスカイト層上への成膜や量産性、環境親和性に向く。


ＳｎＯ２は安価に手に入る金属酸化物でＰＶＤで成膜すると導電性を持つ膜になる。電気の通りが良くなり過ぎると電子輸送層として働かないが、住重のＲＰＤ法を用いることでＰＶＤ方式としては世界で初めて、電子輸送層として機能する適度な絶縁性を持つＳｎＯ２膜を形成できることを確認した。

ＲＰＤ法は太陽電池やフラットパネルディスプレーなどの透明導電膜の成膜装置として実績を持つ。電子輸送層の成膜と透明導電膜の成膜の各工程を連続的に組み合わせられる。

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