April 28, 2026
半導体向けガラスセラミック基板開発で日台連携
山村グループは、ガラス材料の技術を基盤として、高付加価値材料の開発に取り組んできた。こうした中、半導体分野では次世代基板材料として、低誘電特性と高い寸法安定性を両立できるガラスセラミック基板が注目されている。
特に、AIアクセラレーターやデータセンター向けGPU、高速通信モジュールなどでの活用が見込まれている。
特に、AIアクセラレーターやデータセンター向けGPU、高速通信モジュールなどでの活用が見込まれている。
そこで山村グループは、ITRIや中國製釉と技術連携し、半導体先進パッケージング材料市場に参入することを決めた。今回の合意に基づき、ITRIや中國製釉と協力しながら、研究開発や評価/検証、量産を行うための体制を整える。
その上で、大面積対応を視野に入れながら、低誘電特性と機械的信頼性を兼ね備えたガラスセラミック基板の早期実用化を目指すことにした。
※記事の出典元はツイッターで確認できます⇒コチラ

その上で、大面積対応を視野に入れながら、低誘電特性と機械的信頼性を兼ね備えたガラスセラミック基板の早期実用化を目指すことにした。
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